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                      解決方案

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                      有機物氧化物清洗

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                      等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,正常情況下去除的微粒被氣流帶走,無殘留,避免了液體清洗介質清洗帶來的二次污染。被清除的沾污可能有:有機物、環氧樹脂、光刻膠、焊料、金屬鹽、氧化物等。對應不同的污染物,應采用不同的清洗工藝,一般來說,根據選擇的工藝氣體不同其清洗的污染物類別也有很大的區別,有的氣體是用來清洗有機物,有的氣體是用來清洗氧化物,具體應用舉例如下:

                      氧氣等離子清洗有機物示意圖

                       氧氣等離子清洗有機物示意圖

                      有機物+O2→CO2+H2O

                      氧氣通過與表面的有機物發生氧化反應來清潔材料表面。清洗過程中,活潑的氧自由基與碳氫化合物發生反應,產生的二氧化碳、一氧化碳和水等隨氣流揮發排出。

                      氫氣等離子還原氧化物示意圖

                      氫氣等離子清洗氧化層

                      H2+非揮發性金屬氧化物→金屬+H2O

                      氫氣通過與表面的氧化物發生還原反應來清潔材料表面。出于安全性考慮,建議使用 氬 / 氫混合氣,其中氫氣含量不超過 6% 。


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